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Estudiantes de Prevención de Riesgos asisten a seminario de fotoprotección

El evento contó con el respaldo del Gobierno de Chile a través del Ministerio del Medio Ambiente.

El evento contó con el respaldo del Gobierno de Chile a través del Ministerio del Medio Ambiente.

Estudiantes de Ingeniería en Seguridad y Prevención de Riesgos de la Universidad Andres Bello Campus Viña del mar asistieron acompañados de su director, José Antonio Llanos, al I Seminario de Fotoprotección y Salud Ocupacional realizado en la Ciudad Jardín.

La muestra, que se desarrolló el 30 de agosto en el Hotel Enjoy, contó con el respaldo del Gobierno de Chile a través del Ministerio del Medio Ambiente, CONAC, ACHS y Deusche Pahrma y buscó responder a la interrogante: ¿Protección de radiaciones no ionizantes o simplemente protección UV?.

En el encuentro participaron los siguientes expositores: Ernesto Gramsch, Doctor en Física de la Universidad de Santiago; Johanna Arriagada, ingeniero ambiental Unidad Ozono del Ministerio de Medio Ambiente; Cecilia Orlandi, médico dermatóloga asesora de CONAC; Gabriela Moreno, médico especialista en salud ocupacional miembro de la comisión técnica de Minsal y Luis Aguilera, gerente general de DeuschePahrma.

Por Valeria Aspillaga
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Escrito por: Natalia Cabrera